Eletroquimica
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Química de superfícies
• Superfícies promovem as reações porque são pontos de encontros.
• Processos indústriais são governados pela química de superfície – catálise e corrosão.
Crescimento e estrutura superficial
• Processo de deposição na superfície.• Adsorção – acúmulo de partículas em uma
superfície – adsorbato e substrato.
O papel dos defeitos superficiais
• Formam-se arestas de camadas incompletas de átomos ou de íons.
• Terraço, esquina e degraus.
O átomo interage com diversos átomos da superfície irregular, interação que pode ser suficientemente forte para fixá-lo.
Deslocamento superficialNem todos tipos de defeitos provocam crescimento sustentado superfície.Há um estágio em que um terraço foi coberto – defeito eliminados – crescimento cessa.Para um crescimento continuado, um defeito tem que se propagar com o crescimento do cristal.
• Deslocamento helicoidal – O cristal cresce na forma de uma espiral contínua.
• Deslocamento helicoidal – O cristal cresce na forma de uma espiral contínua.
A rapidez do crescimento do cristal depende do plano que cresce mais lentamente, esta face dominará a aparência do cristal.
Catálise - A composiçãoda superfície
Em condições normais uma superfície é constantemente bombardeada com partículas gasosas e qualquer superfície é rapidamente coberta. Uma estimativa da velocidade de recobrimento pode ser feita pela teoria cinética dos gases e pela expressão do fluxo de colisão:
Para ar (M ~ 29g mol-1) a 1 atm e 25°C, Z é: 3x1023 cm-2 s-1.
Catálise - A composição da superfície
1 cm2 de metal contém aproximadamente 1015
átomos.O tempo que superfície permanece limpa é muito curto.Para diminuir esse problema: diminuir a pressão.
Técnica de alto vácuo1 µTorr - Zw ~ 4 x 1014 cm-2 s-1 - 1 colisão a cada 3 s;1 nTorr - Zw ~ 4 x 109 cm-2 s-1 - 1 colisão a cada 105 s;
Técnicas de caracterização superficial - ionização
A composição superficial pode ser determinada por uma variedade de técnicas de ionização.
Também podem ser usadas para detectar qualquer contaminação remanescente.
Espectroscopia de fotoelétrons
Raios X ou radiação UV ionizante são usados para ejetar elétrons de valência ou elétrons das camadas internas.Revela quais orbitais do adsorbato estão envolvidos na ligação com o substrato.
Espectroscopia de fotoelétrons
Espectro de fotoelétrons excitados por raios X em uma amostra de ouro contaminada por uma camada superficial de mercúrio.
Espectroscopia de vibraçãoIR – Emissão fraca, usa-se absorção-reflexão. Investiga os adsorvatos e verificam se há ou não dissociação na adsorção.
Raman (SERS) – Permite a determinação do espalhamento da radiação – interação fraca.
EELS – Espectroscopia por perda de e-.Em EELS a perda de energia sofrida por um feixe de e- é refletido por uma superfície.
Espectroscopia de vibraçãoO espectro de perda de energia pode ser interpretados em termos de espectros de vibração do adsorbato. À medida que qCO aumenta, um pequeno pico por volta de 225 meV.
Espectroscopia de vibraçãoEspectroscopia de elétrons Auger (AES) – Fazer o levantamento da composição da superfície uma vez que os e- emitidos são característicos de cada átomo.
Espectroscopia de vibraçãoDifração de elétrons de baixa energia (LEED) – investigação da intensidade da difração em função da energia do feixe de elétrons.Obtém-se informação sobre a localização vertical dos átomos e mede a espessura das camadas superiores. Identificando os terraços, degraus e irregularidades na superfície, portanto estima-se a densidade supeficial – defeitos/unidade de área superficial
Espectroscopia de vibração
Espectroscopia de vibraçãoMicroscopia de efeito túnel (STM) • O componente central da microvarredura por
tunelamento é uma ponta de prova, muito fina, de platina-ródio oe de tungstênio, que varre a superfície de um sólido condutor. Quando a ponta fica muito perto da superfície, os elétrons podem tunelar através do espaço entre a superfície e a prova.
• Fazendo uma varredura da topografia da superfície e dos adsorbatos na superfície.
Espectroscopia de vibraçãoTécnicas de feixes moleculares (MBS)• Imagem detalhada dos eventos que ocorrem
durante as reações nas superfícies.• Investigar a atividade de planos cristalinos
determinados pela incidência do feixe sobre uma superfície orientada, que tenha densidades conhecidas de defeitos.
AdsorçãoO recobrimento superficial é normalmente expresso como uma fração:q = n° de sítios ocupados n° de sítios disponíveisA velocidade de adsorção q pode ser determinada.Principais técnicas para medida de q.• Métodos de fluxo ou escoamento – a própria
amostra atua como um bomba, pois a adsorção remove as partículas de gás.
Adsorção• Dessorção instantânea – aquecimento da
amostra por pulso elétrico, acompanha-se a elevação da pressão.
• Microbalança (Gravimetria) – a frequência de ressonância de um cristal de quartzo é dada pela relação:
f0 = ½ d (mc/pc)1/2
A relação entre f0 e a diferença de massa na face do cristal é dada pela relação de Sauerbrey: D0 = - {2f0
2/(mc/pc)1/2} Dm
Quimissorção e FisissorçãoAdsorção física – van der WaalsAcomodação – perda de ½ kT por colisão sucessivas.• Adsorção química -