Sílica Cristalina vs Não-Cristalina Estrutura: Projeção 2D
Transcript of Sílica Cristalina vs Não-Cristalina Estrutura: Projeção 2D
Siacutelica Cristalina vs Natildeo-CristalinaEstrutura Projeccedilatildeo 2D
Siacutelica Cristalina Siacutelica Natildeo-Cristalina
Siacutelica Natildeo-Cristalina
Quartzo Fundido
Siacutelica Fundida Sinteacutetica (InfrasilSuprasil etc)
Mineral Quartzito
bull Siacutelica Gel (Xerogel)
ndash Siacutentese em soluccedilatildeo via processo Sol-gel
bull Siacutelica Aerosil (Fumed Silica)
ndash Siacutentese via oxidaccedilatildeo de SiCl4 na chama
bull Ambas tecircm alta Aacuterea superficial especiacutefica (100-500m2g-1)
Siacutelica Natildeo-Cristalina
Estudando a Ordem-DesordemDifraccedilatildeo de Necircutrons
bull Necircutrons- partiacuteculas nucleares liberadas em processos de Fissatildeo nuclear de Isoacutetopos em Reatores Nucleares
bull Energia de ateacute 1MeV eacute muito alta para uso praacutetico portanto eles satildeo desacelerados
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-SA
Princiacutepio da DualidadeLouis De Broglie
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-SA
Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica Natildeo-Cristalina
Quartzo Fundido
Siacutelica Fundida Sinteacutetica (InfrasilSuprasil etc)
Mineral Quartzito
bull Siacutelica Gel (Xerogel)
ndash Siacutentese em soluccedilatildeo via processo Sol-gel
bull Siacutelica Aerosil (Fumed Silica)
ndash Siacutentese via oxidaccedilatildeo de SiCl4 na chama
bull Ambas tecircm alta Aacuterea superficial especiacutefica (100-500m2g-1)
Siacutelica Natildeo-Cristalina
Estudando a Ordem-DesordemDifraccedilatildeo de Necircutrons
bull Necircutrons- partiacuteculas nucleares liberadas em processos de Fissatildeo nuclear de Isoacutetopos em Reatores Nucleares
bull Energia de ateacute 1MeV eacute muito alta para uso praacutetico portanto eles satildeo desacelerados
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Princiacutepio da DualidadeLouis De Broglie
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Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
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Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
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Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
bull Siacutelica Gel (Xerogel)
ndash Siacutentese em soluccedilatildeo via processo Sol-gel
bull Siacutelica Aerosil (Fumed Silica)
ndash Siacutentese via oxidaccedilatildeo de SiCl4 na chama
bull Ambas tecircm alta Aacuterea superficial especiacutefica (100-500m2g-1)
Siacutelica Natildeo-Cristalina
Estudando a Ordem-DesordemDifraccedilatildeo de Necircutrons
bull Necircutrons- partiacuteculas nucleares liberadas em processos de Fissatildeo nuclear de Isoacutetopos em Reatores Nucleares
bull Energia de ateacute 1MeV eacute muito alta para uso praacutetico portanto eles satildeo desacelerados
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-SA
Princiacutepio da DualidadeLouis De Broglie
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
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Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
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Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
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Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Estudando a Ordem-DesordemDifraccedilatildeo de Necircutrons
bull Necircutrons- partiacuteculas nucleares liberadas em processos de Fissatildeo nuclear de Isoacutetopos em Reatores Nucleares
bull Energia de ateacute 1MeV eacute muito alta para uso praacutetico portanto eles satildeo desacelerados
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Princiacutepio da DualidadeLouis De Broglie
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Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
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Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
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Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
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1
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Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Princiacutepio da DualidadeLouis De Broglie
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Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
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Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
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Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
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Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
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Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Energia e Comprimento de Onda dos Necircutrons
Difraccedilatildeo de Necircutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Difraccedilatildeo de Necircutrons
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Aparato Experimental para Dif Necirctutrons
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Fenocircmeno de Difraccedilatildeo por uma Rede Cristalina
Lei de Bragg continua vaacutelidan= 2d sen
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Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Fator de Espalhamento AtocircmicoRaios X vs Necircutrons
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-SA
Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Ordem agrave Curta DistacircnciaSiacutelica Viacutetrea
Difraccedilatildeo de Necircutrons
1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 1048616 10486161048616 1048616 1048616 1048616
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Estrutura Fractal da Siacutelica Gel
(a) Modelo do arranjo molecular dos grupos silicatos na siacutelica gel obtido por Modelagem com Mecacircnica Estatiacutestica (modelo baliacutestico) (b) micrografia da siacutelica gel obtida por Microscopia Eletrocircnica de Varredura
M Grzegorczyk et al Chaos Solitons and Fractals 19 (2004) 1003ndash1011
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica Natildeo-Cristalina
bull Siacutelica AerogelExtremamente leved=003-035gcm3
Emily NorvellPurdue University
Boa transmitacircncia agrave luz visiacutevel
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Fase Estacionaacuteria CromatograacuteficaSiacutelica Aerogel preparada a partir de Siacutelica de Casca de Arroz
Orquiacutedea Cattleya bowringiana
extraccedilatildeo
CF3COOMeOH
Cromatografia de Camada Delgada (TLC)
Iniacutecio
KNMaamur et al MaterResInnov2009 (13) 334
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica AerogelLarnita Absorccedilatildeo de CO2
bull Ca2SiO4SiO2(aerogel)
CO2
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica Biogecircnica ou Opala
bull Siacutelica natildeo-cristalina (amorfa) produzida por seres vivos
Siacuteli
ca B
ogecircnic
a
Fitoacutelitos
Diatomaacuteceas amp
Radiolaacuterias
Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Um exemplo de Siacutelicas Biogecircnicas (Bsi)Morfologias de Siacutelicas Biogecircnicas encontradas nos Rios
Pahang Endau e Pontiang na Malaacutesia
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Fitoacutelitos
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
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PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
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Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
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SiO2+CrarrSi+CO2
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
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Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
20m
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY
Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
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bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica em Cinza de Bagaccedilo de Cana-de-Accediluacutecar
50m
Cinza de Bagaccedilo parcialmente queimado
SiO2
Porosa
SiO2
fundida
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Cinza
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
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Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Fitoacutelito ciliacutendricodo bagaccedilo de cana
Fitoacutelito de cana
Fitoacutelito parcialmente fundido
FitoacutelitoFundido e globular
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Q
Q
Q
anorthite -quartzo
Heliyon 3 (2017) e00294 doi 101016jheliyon2017 e00294
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
PalhasFontes de Siacutelica
Palha de Arroz
Siacutelica na Palha
Nanopartiacuteculas de SiO2
Quiacutemica Nova (Impresso) 33 2010 p 794 - 797
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
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0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
SiacutelicaCasca de Arroz e Seus Usos
Materiais para Construccedilatildeo Civil
Aditivo de formulaccedilatildeo de pneus usando borracha natural e nitriacutelica com silanos Patente JP2011068784-A
Polipropileno reciclado reforccedilado com siacutelica de casca de arroz
Patente BR200810757-A2
A Nourbakhsha et al Industrial
Crops and Products 33 (2011) 183ndash187
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Produccedilatildeo Carboteacutermica de Sieletrocircnico
por meio da Cinza de Palha de Arroz
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SiO2+CrarrSi+CO2
Green Chem 2015 17 3931
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
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Suberites domuncula
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SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Siacutelica Biogecircnica Esponjas
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
Suberites domuncula
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-NC-ND
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
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bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
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Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
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Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
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Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
SilicateiacutenaSiacutetio Ativo
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Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
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Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
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Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
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bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
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K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
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Corrosatildeo (Etching) SiO2
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Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
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Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Espiacuteculas de Esponjas
Espiacutecula basal gigante deMonoraphis Chuni (11000 anos)
Utilizando as Espiacuteculas
Journal of Archaeological Science 37 9 2010 2179-2187
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
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Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
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1198792
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0
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1
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Corrosatildeo (Etching) SiO2
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Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Utilizando as Espiacuteculas
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Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
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Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
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bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Carga Liacutequida Superficial e Equiliacutebrio Aacutecido-Base de Bronsted-Lowry na Superfiacutecie da SiO2
Si+4
O2-
silanol
Xiaoge Gregory Zhang Electrochemistry of Silicon and Its Oxides p 152-153
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Superfiacutecie da Siacutelica
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
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Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
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1198792
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0
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1
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Equiliacutebrio Aacutecido-Base na SuperfiacutecieModelo da Tripla Dupla Camada
Eleacutetrica
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
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1198771198790119879 119889119879
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1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
C1 e C2 satildeo capacitacircncias119862119894 = ∆120590119894 ΔΨ119894
minus1
Respectivos potenciais interfaciais
Respectivas densidades de Carga
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
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0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Potencial Superficial Potencial Zeta
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Potencial Isoeleacutetrico = 0 densidade de carga liacutequida na superfiacutecie eacute zero
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
Colloids and Surfaces A 554 (2018) 245ndash252
Este mecanismo de estabilizaccedilatildeo eacute chamado de estabilizaccedilatildeo esteacutericaLeitura recomendada httpswwwmaxwellvracpuc-riobr1160811608_5PDF
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
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bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
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bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
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1
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Importacircncia do Potencial Zeta (ζ)Estabilidade Coloidal ζ mV
Aglomeraccedilatildeo Maacutexima Precipitaccedilatildeo
0 ateacute 3
Forte Aglomeraccedilatildeo e Precipitaccedilatildeo
-5 ateacute 5
Valor Limite para iniciar Aglomeraccedilatildeo
-10 ateacute -15
Valor Limite para obter uma dispersatildeo
-16 ateacute -30
Moderada Estabilidade -31 ateacute -40
Estabilidade Razoavelmente Boa
-41 ateacute -60
Muito boa estabilidade -61 ateacute -80
Excepcional Estabilidade -81 ateacute -100
Thomas M Riddick Control of Colloid Stability through Zeta Potential ZetandashMeter Inc 1968
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
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bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
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K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
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Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
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Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Soluccedilatildeo de Fluoreto
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Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
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Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Potencial Zeta e Estabilidade Coloidal
Fracamente agregado
Potencial ζ BaixoAlto
Alta Dispersatildeo Fortemente Agregado
Viscosidade
Tempo
Tensatildeo de Ruptura
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Adsorccedilatildeo de Poliacutemeros para Estabilizaccedilatildeo de Suspensatildeo Coloidal de Siacutelica
Quitosana
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bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
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K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
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1
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1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
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Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
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ade
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Corrosatildeo em Meio Baacutesico
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Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
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Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Grupos Superficiais na Superfiacutecie da Siacutelica Responsaacuteveis pelas Cargas Superficiais
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Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
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K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
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Corrosatildeo (Etching) SiO2
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[F] = 1m
[F] = 01m
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Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
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Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
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Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
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bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
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119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
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Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
[F] = 1m
[F] = 01m
[F-1]
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
Esta Foto de Autor Desconhecido estaacute licenciado em CC BY-SA
httpbwrcseecsberkeleyeduClassesicdesignee141_s02LecturesLecture5-Manufacturingpdf
Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
Solubilidade da Siacutelica Amorfa em Aacutegua
bull SiO2(s amorfa) + 2H2O(l)rarrH4SiO4
bull ∆119867119903= ∆119867119901119903119900119889119906119905119900119904 minus ∆119867119903119890119886119892119890119899119905119890119904= minus3491 minus
minus21594 + 2 minus68315 =+ 347119896119888119886119897119898119900119897minus1 119886 298119870 rarr endoteacutermica
bull ∆119866119903= +4044 119896119888119886119897mol-1 a 298 K
bull ∆119866 = minus119877119879119897119899119870 there4 119870 = 10minus296
Faure G Inorganic Geochemistry p246
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
0
1198771198790119879 119889119879
1198792
bull 119897119900119892119870119879 = 1198971199001198921198701198790 minus∆119867119903
0
2305119877
1
119879minus
1
29815
Corrosatildeo (Etching) SiO2
Xiaoge Gregory Zhang Elecrochemistry of Silicon and Its Oxides p 142-165
Corrosatildeo em funccedilatildeo da Estrutura no Estado Soacutelido
densid
ade
Mecanismo Proposto
Corrosatildeo em Meio Baacutesico
Soluccedilatildeo de Fluoreto
Journal of Fluorine Chemistry 24 (1984) 175-190
Diagrama de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para Iacuteons fluoreto
Soluccedilatildeo de Fluoreto
A Mitra JD Rimstidt Geochimica et Cosmochimica Acta 73 (2009) 7045ndash7059
Diagrama Completo de Distribuiccedilatildeo de Espeacutecies para o Fluoreto
Corrosatildeo na Presenccedila de Fluoreto
Mecanismo Proposto de Corrosatildeo por Fluoreto
Corrosatildeo do Quartzo na Presenccedila de Fluoreto
[F] = 3m
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Aplicando a Corrosatildeo Controlada (Etching)Construccedilatildeo via Fotolitografia de um Transistor de Efeito de Campo
Metal-Oacutexido-Semicondutor (TECMOS ou MOSFET)
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Litografia = processo de transferecircncia de um padratildeo de uma maacutescara do circuito projetado(Foto)Resiste (photoresist) = poliacutemero fotossensiacutevel (ao UV de vaacutecuo λlt190nm) usado para proteger de ataque corrosivo Etching = corrosatildeo controlada de um material usando agentes quiacutemicos ou plasma reativo
Construiacutedo Microdispositivos Baseado emCorrosatildeo Controlada com Plasma de XeF2 vs F2
F2 vs XeF2
Menor rugosidade e melhor perfil das bordas
K em funccedilatildeo da Temperatura
bull 1198790119879
119889119897119899 119870 =∆119867119903
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1198771198790119879 119889119879
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0
2305119877
1
119879minus
1
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[F-1]
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[F] = 1m
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F2 vs XeF2
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[F] = 3m
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F2 vs XeF2
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