Programas de CAD
• Simulação de processo: - SUPREM
• Simulação de dispositivos: - PISCES
• Reduz tempo de ajuste experimental e custo.
SUPREM
• Modelos de etapas de processo:– oxidação– difusão– implantação de íons– deposição de filmes: CVD e PVD– etching
SUPREM - cont.
• Descreve a estrutura em uma rede de pontos
• Resolve as equações dos modelos das etapas, versus parâmetros do processo: tempo, temperatura, ambiente, etc.
• Pode ser uni-, bi- ou tridimensional.
• Obtém-se a descrição física da estrutura do dispositivo.
PISCES
• Simula dispositivos
• Entrada: descrição da estrutura física e polarização do dispositivo.
• Resolve as equações básicas de semicondutores: Poisson e Continuidade.
Resultados:
• Distribuição de potencial elétrico
• Distribuição de campo elétrico
• Dsitribuição de densidade de portadores
• Distribuição de densidades de correntes de portadores
• Corrente total pelos terminais do dispositivos
Exemplo PISCES - CCS
• Arquivo de entrada: ver apostíla
• Obtem-se os seguintes resultados abaixo:– corrente Ids x Vgs, para Vds = 2V– distribuição de potencial elétrico– distribuição de densidade de elétrons– distribuição de densidade de corrente de
elétrons.
Como corrigir a anomalia?
• Aumentar a dopagem abaixo do canal.
• Obtem-se os seguintes resultados abaixo:– distribuição de potencial elétrico– distribuição de densidade de elétrons– distribuição de densidade de corrente de
elétrons.
Top Related